面型处理方法、系统、电子设备

本申请实施例提供了一种面型处理方法、系统、电子设备，涉及离子束领域。包括：确定工件置于真空腔体；指示发射器对工件执行至少一轮刻蚀操作，直至满足第一条件，确定将工件从真空腔体中移出；第一条件包括刻蚀操作后的面型与目标面型的差异小于第一阈值：每一轮刻蚀操作包括：获取工件在本轮待操作的面型；获取本轮操作的刻蚀速率分布以及本轮待操作的面型和目标面型间的第一差异；根据刻蚀速率分布以及第一差异，确定本轮操作的操作策略，根据操作策略指示离子束发射器对工件进行刻蚀操作，获得本轮刻蚀操作后的面型；若确定参数存在异常，则对相关的参数进行调整，获取新的刻蚀速率分布继续执行刻蚀操作。本申请提高了面型处理的效率和精度。