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用于确定成像系统定位参数的系统和方法
InventionActive
37Claims · 2 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Inventor
特雷弗·W·莱恩; 大卫·W·贝利; 费代里科·巴尔巴利; 豪尔赫·安东加西亚; 张惠
IPC Classification
A61B 90/00 (2006.01)A61B 34/10 (2006.01)A61B 6/58 (2006.01)A61B 17/00 (2006.01)
系统可以包括:基准面板,其包括三维的、射线不可透过的基准标记的多个阵列。多个阵列中的每个阵列可以包括多个第一类型的基准标记和多个第二类型的基准标记。多个第一类型的基准标记和多个第二类型的基准标记可以形成基准标签图案。多个阵列中的至少一个的基准标签图案可以在由旋转成像系统生成的多个图像中可见。
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