制造光刻设备的光学系统的方法和控制装置

本发明涉及一种用于制造光刻设备（1）的光学系统（100）的方法，其中光学系统（100）包括具有光学有效表面（106）和基板（104）的光学部件（102），所述方法包括：a）为一个或多个光学部件（102、202a、202b、202c）的基板（104'、204a、204b、204c）提供（S2）作为基板（104'、204a、204b、204c）的位置(r)的函数的相应基板（104'、204a、204b、204c）的热膨胀系数（p'）的零交叉温度（ZCT'、ZCT、ZCT、ZCT）的相应归一化分布函数（g、h、h、h），b）以计算机实现的方式为每个提供的分布函数（g、h、h、h）和彼此不同的多个预定的平均零交叉温度（M）确定（S3）光学系统（102）的成像误差（F），以及c）将待制造的光学部件（102）的基板（104）的至少一个选择的平均零交叉温度（M）确定（S4）为多个平均零交叉温度（M）中所确定的成像误差（F）小于预定阈值（SW）的那个平均零交叉温度。