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기록
n型金刚石MOSFET及其制造方法
발명유효
2조회수
18청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
廖梅勇; 小泉聪
IPC 분류
H10D 30/01 (2025.01)H10D 30/60 (2025.01)H10D 64/01 (2025.01)
提供电特性优异的使用了单晶金刚石半导体的n型MOSFET。根据本发明的一个方式,提供一种n型MOSFET101,其具有:至少在表面的一部分具有单晶金刚石层的基板11;与基板11相接且从n型金刚石单晶形成的第1半导体层12;在第1半导体层12上依次层叠有绝缘性膜14及栅电极15的栅电极部;在第1半导体层12上依次层叠有从n型金刚石形成的第2半导体层13及源电极16的源电极部;和在第2半导体层13上形成有漏电极17的漏电极部,第1半导体层13包含浓度为2×10cm以下的n型杂质、且氢含量为与n型杂质同数量级的浓度以下,第1半导体层12中的栅电极部区域的表面被氧封端,第2半导体层13包含浓度为2×10cm以下的n型杂质、且氢含量为2×10cm以下并且与第1半导体层12电接触。