半导体材料加工用洗涤塔

本发明提供了半导体材料加工用洗涤塔，包括塔体；塔体的顶部设置有排气口；出气罩设置在塔体的下部内，且出气罩的下方设置有集液腔；出气罩的外圈与塔体的内壁之间围成环形的过道；隔筒固定安装至出气罩的顶部上，隔筒外壁与塔体内壁之间围成顶部封闭，底部与过道连通的处理腔；第一处理组件设置在处理腔内，第一处理组件用于向处理腔内喷洒处理液；处理腔的顶部连通有导流管，导流管的出气部延伸至隔筒底部内侧处；第二处理组件设置在塔体的上部内，第二处理组件用于向塔体上部内喷洒处理液。上述洗涤塔可提高废气的处理路径，提高废气的处理效果。