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合金熔体导流装置及其浇注方法

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§ Ⅰ

Dossier Overview

Inventor

李志刚; 李雪飞; 王彦惠; 刘海艳; 孙岳来; 缪晓宇; 邓军; 贾明

IPC Classification

B22D 35/04 (2006.01)

本申请涉及一种合金熔体导流装置及其浇注方法,涉及合金浇注技术领域,导流装置包括导流腔、挡渣件、沉降件及过滤件,导流腔包括依次连通的入口区域、沉降区域和出口区域;挡渣件设置于入口区域和沉降区域之间,用于拦截合金熔体中的夹杂物;沉降件设置于沉降区域中,沉降件与导流腔之间形成供合金熔体通过的沉降通道;过滤件设置于沉降区域和出口区域之间,用于过滤通过沉降区域的合金熔体。过层层过滤净化,改善合金熔体的流动性,形成稳定的层流状态,降低合金锭中夹杂物和浮渣含量,提高导流装置的挡渣篦渣能力,降低堵塞过滤网的风险,从而提升合金冶金质量。

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