一种用于获得低表面金属杂质含量的熔石英光学元件的加工方法

本发明公开了一种用于获得低表面金属杂质含量的熔石英光学元件的加工方法，依次包括：坯料切割、铣磨成型、激光预处理、精磨、粗抛、酸洗、两道精抛及离子束精修，通过激光预处理去除机械亚表面损伤，采用二氧化硅抛光液进行无金属污染抛光，利用超声波辅助酸洗深度清除金属杂质，并通过零压力精抛与非接触式离子束精修协同作用，最终在去除表面损伤层、控制面形精度的同时，将表面金属杂质含量降至ppb级别，特别是铈元素含量下降90%以上，并获得均方根粗糙度优于0.5nm的超光滑表面。本发明解决了传统工艺难以兼顾低表面粗糙度与低金属杂质含量的技术难题，适用于高端光学元件的批量化、稳定化制造。