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Dossier
光波导装置、制备方法、电子器件及电子设备
InventionActive
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§ Ⅰ
Dossier Overview
Inventor
杨健晗; 吴博; 严潇远
IPC Classification
G02B 6/00 (2006.01)G02B 1/10 (2015.01)
一种光波导装置、制备方法、电子器件及电子设备,其中,光波导装置包括波导、耦出光栅和介质层。耦出光栅用于出射光线,耦出光栅包括多个衍射光学结构,多个衍射光学结构倾斜设置于波导,相邻两个衍射光学结构和波导之间形成有凹槽。介质层的至少部分材料填充于凹槽中,介质层的至少部分材料包覆于衍射光学结构远离波导一侧的表面,且介质层上远离波导一侧的表面为平面。介质层的折射率小于耦出光栅的折射率。本申请中,在耦出光栅上通过涂覆工艺成型的介质层可以实现对多个衍射光学结构间的凹槽进行充分填充,还能够在耦出光栅远离波导的一侧形成具有一定厚度的膜层,且膜层上远离波导的一侧的表面形成为平面,平面上不会出现凹陷,从而可以避免凹陷对消漏光的效果造成影响,也能够避免在凹陷处产生不理想的杂散光线,有利于提升光效和均匀性,能够保证最终的成像质量。
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