决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法

提供决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法。一种决定方法，决定表示经由将来自原版的光投影到基板的投影光学系统检测标志的第1测量仪的光轴与不经由所述投影光学系统检测标志的第2测量仪的光轴之间的距离的基线的基线校正量，具有：第1工序，从利用所述第1测量仪以及所述第2测量仪的第1次数的检测结果取得基准基线；第2工序，关于第n个（n是1以上的整数）批次，从利用所述第1测量仪以及所述第2测量仪的比所述第1次数少的第2次数的检测结果取得基线（M）；以及第3工序，根据在所述第1工序中取得的所述基准基线、和在所述第2工序中取得的所述基线（M），决定在所述第n个批次中使用的基线校正量（X）。