分析用于光刻的掩模的方法

本文描述的公开内容涉及一种用于分析用于光刻的掩模的方法，包括：对准所述掩模的空间像（I）和所述掩模的掩模设计（ML），以形成所述空间像（I）和所述掩模设计（ML）的叠加；其中CD阈值确定区域（501）和CD测量区域位于所述空间像（I）内；使用空间像（I）和掩模设计（ML）的叠加确定CD阈值确定区域（501）中的CD阈值；使用所述空间像和所确定的CD阈值来测量所述CD测量区域中的临界尺寸CD。此外，该方法可以包括：使用所述掩模设计（ML）确定所述CD测量区域中的目标CD；将所测量的CD与所确定的目标CD进行比较。本公开同样涉及对应的计算机程序、对应的装置和对应的系统。