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Dossier

超深沟槽氧化铝的填充方法

InventionActive
9Claims · 1 independent
§ Ⅰ

Dossier Overview

Inventor

邢中豪; 王冲; 李宗旭; 梁金娥; 赵正元; 张守龙

IPC Classification

H10D 1/00 (2025.01)H10D 1/68 (2025.01)H10W 20/40 (2026.01)H10W 44/00 (2026.01)C23C 16/455 (2006.01)C23C 16/40 (2006.01)

本发明公开了一种超深沟槽氧化铝的填充方法,提供一晶圆,所述晶圆上具有需要填充氧化铝的超深沟槽;将所述晶圆送入反应腔室,通入TMA/N原料气体,在反应腔室内反应一段时间;进行留置步骤,原料气体在反应腔室内滞留;对反应腔室内进行清洗,去除反应腔室内部全部的气体;进行H0处置步骤,在反应腔室内部通入水蒸气进行反应,并滞留一段时间;进行清洗步骤,清除反应腔室内部的全部反应物;本发明所述的超深沟槽氧化铝的填充方法,采用TMA反应时间延长并进行留置一段时间的方式,提升超深沟槽内ALO的填充能力,改善ALO面内均匀性。

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