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Dossier

半导体装置及其制造方法

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§ Ⅰ

Dossier Overview

Inventor

陈彦儒; 张兆易

IPC Classification

H10D 64/27 (2025.01)H10W 20/43 (2026.01)H10D 30/66 (2025.01)H10D 30/01 (2025.01)

一种半导体装置包含基板、漂移区、通道区、源极区、栅极电极层以及栅极垫。漂移区位于基板内。通道区位于基板内。源极区位于基板内并相邻于通道区。栅极电极层位于漂移区上方并相邻于通道区与源极区,其中栅极电极层包含元件区、连接区以及栅极接垫区。元件区至少覆盖基板内的通道区。连接区相邻于元件区,其中连接区具有穿透连接区的至少一开口。栅极接垫区使得连接区位于元件区和栅极接垫区之间。栅极垫接触栅极电极层的栅极接垫区,其中栅极垫与栅极电极层的连接区的至少一开口侧向分离。由于在栅极电极层的连接区具有穿透栅极电极层的开口,因此可以减小栅极‑漏极间电容(C)的大小,进而降低半导体装置切换时的能耗,提升切换时的速度。

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