微显示单元及其制备方法、显示装置

本发明实施例公开了一种微显示单元及其制备方法、显示装置，通过设置位于欧姆接触单元远离发光单元一侧的刻蚀阻挡层，并设置刻蚀阻挡层在发光单元上的正投影与欧姆接触单元部分交叠，且刻蚀阻挡层的刻蚀速率小于发光单元的刻蚀速率，使得存在过刻的情况下，即使欧姆接触层被刻穿，与欧姆接触单元存在交叠部分的刻蚀阻挡层也不会被刻穿。由此，在后续工艺中形成电极后，电极与刻蚀阻挡层接触，由于刻蚀阻挡层导电，使得刻蚀阻挡层将电极与欧姆接触单元形成电连接，使得微显示单元的电流扩展性良好，提升芯片的整体良率。如此，可以增加刻蚀的工艺窗口，降低刻蚀工艺对刻蚀均匀性的要求，增加刻蚀误差成容错率，增加微显示单元的良率。