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盖带薄膜封合极差小工艺参数控制方法及系统

발명유효
14조회수
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

常国强; 何志平; 李明俊

IPC 분류

B65B 51/10 (2006.01)B65B 15/04 (2006.01)B65B 57/00 (2006.01)H10P 72/30 (2026.01)H10P 72/10 (2026.01)G01D 21/02 (2006.01)G06Q 10/0639 (2023.01)G06Q 10/04 (2023.01)G06Q 50/04 (2012.01)G16C 60/00 (2019.01)B29C 65/02 (2006.01)

本发明涉及电子封装技术领域,揭露了一种盖带薄膜封合极差小工艺参数控制方法及系统,其方法包括:先获取盖带在薄膜封合产线中的初始工艺参数集,确定封合热熔界面,分析材料流变模态与能场耦合比例;继而基于能场耦合比例检测薄膜实时应力状态,生成盖带‑薄膜复合结构并分析其热传导响应特征;再依据热传导响应特征计算热累积效应值与热应力离散值,确定最优热传导路径并检测材料记忆效应项,优化压力梯度分布值;最后基于熵减优化分量重构极差工艺参数,识别核心工艺节点,采集晶相工艺向量,制定参数控制策略。本发明可以提升盖带薄膜的封合一致性与元件保护可靠性。