一种大面积硅纳米图案结构及其制备方法

本发明提供了一种大面积硅纳米图案结构及其制备方法，上述制备方法包括：首先，在衬底表面依次形成牺牲层和光刻胶层；其次，对光刻胶层进行图案化处理，形成多个呈阵列排布的第一微结构；再次，以第一微结构为掩膜对牺牲层进行刻蚀，使牺牲层形成多个与第一微结构一一对应的第二微结构；再次，在衬底表面和多个第一微结构上形成金属层；再次，通过剥离工艺同步去除第二微结构、第一微结构及位于第一微结构上的部分金属层，剩余金属层形成多个呈阵列排布的第三微结构；再次，以第三微结构为模板对衬底进行金属辅助化学刻蚀，使第三微结构完全嵌入衬底内部；最后，去除嵌入衬底内部的第三微结构，在衬底表面形成大面积硅纳米图案结构。