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기록
一种氧化铈靶材及其制备方法
발명유효
1조회수
10청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
桂涛; 白雪; 刘宇阳; 王星明; 张智朝; 储茂友; 孙悦; 王星奇; 韩沧
IPC 분류
C04B 35/50 (2006.01)C04B 35/64 (2006.01)C23C 14/35 (2006.01)C23C 14/08 (2006.01)
本申请提供的一种氧化铈靶材及其制备方法，将粒径为10~500µm的氧化铈粉末置于模具中，并转移至无压烧结环境中进行无压烧结处理，获得氧化铈靶材；其中，所述无压烧结处理采用多阶段阶梯式升温，包括：低温升温阶段：从室温升温至300~400℃，保温2~4小时；中温升温阶段：从300~400℃升温至700~800℃，保温2~4小时；高温升温阶段：从700~800℃升温至1100~1500℃，保温2~7小时。通过将粒径为10~500µm氧化铈粉末置于模具中进行无压烧结处理，无压烧结处理采用多阶段阶梯式升温的方式，可以制备出80%~95%高致密度的氧化铈靶材，且靶材不易开裂，具有良好的大规模应用前景。