一种膜层制备工艺、膜层结构及镜片

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是指一种膜层制备工艺、膜层结构及镜片，包括以下步骤：A.通过镀膜工艺成型硅靶层，在硅靶层成型过程中通入氧气与惰性气体，以使得硅靶层部分结构改性成型应力平衡结构；B.于硅靶层的一端镀膜成型AR增透层；C.于AR增透层远离硅靶层的一端镀膜成型AF防摩擦层；其中，硅靶层用于与外界的基板固定。本发明通过在制备硅靶层的特定时间段内通入氧气与惰性气体，以使得硅靶层镀膜的某个厚度在非真空条件下完成镀膜，以此可有效提升整个硅靶层的内部应力，达到让硅靶层的结合力显著提升的效果。