一种基片传送设备及传送方法

本发明公开了一种基片传送设备及传送方法，设备包括依次连通的真空传输室、真空物料室和真空反应室，真空物料室与真空反应室之间设有隔离门阀组件，真空传输室内设有可升降且可平移的机械手，真空物料室内设有可升降的基片盒，基片盒设有多层间隔设置的放置层，放置层上设有用于装载基片的基片盘，真空反应室内设有工件台，工件台上设有载片台、顶盘组件、片托和片托升降驱动件，片托升降驱动件用于驱动片托升降以将基片盘压载于片托与载片台之间，真空反应室的外侧设有工件台驱动组件，工件台驱动组件穿过真空反应室的腔壁与工件台相连以带动工件台上下翻转。本发明具有适用性强，设备灵活性好，且操作过程便捷的优点。