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Dossier
真空排气系统及真空泵
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§ Ⅰ
Dossier Overview
Inventor
坂口祐幸
IPC Classification
F04D 19/04 (2006.01)
一种真空排气系统(10),用于从多个腔室(10-1~10-n)将工艺气体排气,真空排气系统(10)具备:多个涡轮分子泵(100-1~100-n);集合管(14),将多个涡轮分子泵的排气口并联地连接;1台以上的干式泵(16),与该集合管(14)连接;以及腔室导入阀装置(30-1~30-n),控制导入到多个腔室(10-1~10-n)的气体的流量;基于多个涡轮分子泵(100-1~100-n)的能够排气的流量,设定工艺气体的排气流量阈值(T);借助腔室导入阀装置(30-1~30-n),对气体的导入时机及流量中的至少一方进行控制,以使其不超过该排气流量阈值(T)。
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