검색으로 돌아가기
기록

半导体装置

발명알 수 없음
7조회수
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

高慧芳; 沈庆兴; 吴翔发; 吴孟芳

출원일

Mar 20, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H10H 20/83 (2025.01)H10H 20/819 (2025.01)

本发明公开一种半导体装置,其具有第一长边与相对于第一长边的第二长边。半导体装置包括半导体叠层、第一下部接触结构、第一台面接触结构与第一电极结构。半导体叠层具有下部以及连接于下部的台面部。第一下部接触结构设置于下部上。第一台面接触结构设置于台面部上,并包括:第一注入部、连接于第一注入部的第一延伸部、分离于第一延伸部的第二注入部,以及连接于第二注入部的第二延伸部。第一电极结构覆盖台面部的一部分,并电连接于第一台面接触结构。