产生EUV发光等离子体的EUV驱动激光器、使涂覆有光敏涂层的半导体衬底曝光于EUV光的设施和用于产生组合的激发光束的方法

本发明涉及用于产生靶材的等离子体（14）的EUV驱动激光器（10），该等离子体发射EUV光（12），该EUV驱动激光器包括：第一射束源（16），该第一射束源设置为用于产生具有第一波长的第一激发光束（20），以及第二射束源（18），该第二射束源设置为用于产生具有第二波长的第二激发光束（22）。EUV驱动激光器（10）具有第一泵浦源和第二泵浦源（24，26），所述第一泵浦源和所述第二泵浦源设置为用于向两个射束源（16，18）相应地供应泵浦能量，以使得两个激发光束（20，22）各自通过转换对应的泵浦能量而无散射地产生。此外，EUV驱动激光器（10）具有第一放大器装置（28）和第二放大器装置（30），该第一放大器装置和该第二放大器装置各自具有放大器单元（32），所述放大器单元具有至少一个光学放大器（34），其中，光学放大器（34.i）设置为用于相应地放大两个激发光束（20，22）以形成放大的激发光束（36，38）。根据本发明，EUV驱动激光器（10）具有：组合单元（42），该组合单元设置为用于将放大的激发光束（36，38）进行组合，以形成组合的激发光束（40）；以及聚焦单元（43），该聚焦单元设置为用于将组合的激发光束（40）聚焦到靶材（14）上。此外，根据本发明，第一激发光束和第二激发光束（20，22）和/或两个放大的激发光束（36，38）具有1600 nm至2300 nm的范围内的不同的波长。