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Dossier

从层堆叠分离半导体晶圆的方法及制备半导体晶圆的方法

InventionUnknown
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§ Ⅰ

Dossier Overview

Inventor

G·波尔蒂略韦斯科维; M·L·海利希; M·赫尔纳

Filing Date

Mar 7, 2025

Publication Date

Oct 16, 2026

IPC Classification

H10P 56/00 (2026.01)H10P 58/00 (2026.01)

一种从层堆叠(1)分离半导体晶圆(4’)的方法,包括以下步骤:A)提供层堆叠(1),该层堆叠(1)包括籽晶衬底(2)、位于籽晶衬底(2)上的分离层(3)、及形成于分离层(3)上的半导体层(4),半导体层(4)优选通过外延生长制备于分离层(3)上;B)将半导体晶圆(4’)从层堆叠(1)分离,还包括第一步骤B1),其中在一区域内对半导体层(4)进行预损伤,以降低半导体层(4)在该区域内的断裂应力,其中步骤B1)在步骤B)之前和/或期间执行;以及第二步骤B2),其中沿分离线(11)向半导体层(4)施加来自源的热能装置,其中分离线(11)从半导体层(4)的预损伤区域起始,并且其中来自源的所述热能装置对半导体层(4)进行局部加热和/或冷却,以至少在半导体层(4)被加热和/或被冷却的区域内产生热致应力,从而引发裂纹(13),该裂纹(13)沿分离线(11)延伸的并将半导体晶圆(4’)从层堆叠(1)分离。此外,本发明涉及一种用于制备半导体晶圆(4’)的方法。

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