一种混合光刻模板

本发明涉及微纳加工及光刻技术领域，公开了一种混合光刻模板，包括本体、设置于本体的透光弹性变形区、以及设置于透光弹性变形区的纳米压印图案区和掩膜区；透光弹性变形区的面外弯曲刚度小于与透光弹性变形区相邻的本体区域的面外弯曲刚度，透光弹性变形区能够在驱动载荷作用下产生面外变形。以此结构，在同一透光弹性变形区内集成纳米压印图案区和掩膜区，并利用透光弹性变形区与外围本体之间的刚度差异，使纳米压印图案区和掩膜区能够随透光弹性变形区的面外变形形成不同的工作状态，从而为纳米压印和掩膜光刻两种图形转移方式提供统一的模板结构，有利于减少不同模板之间的切换，并提高光刻加工的工艺集成度和加工效率。