一种光学元件表面加工方法、装置、设备及存储介质

本申请公开了一种光学元件表面加工方法、装置、设备及存储介质，涉及光学表面加工领域，包括：基于待加工光学表面的目标加工区域建立目标孔径掩膜以确定目标去除量；基于目标坐标系和工具去除函数确定各角向模态对应的模态卷积核，建立加工路径采样点与目标活动网格的网格节点之间的目标映射关系，将模态卷积核嵌入目标卷积网格以确定目标频域核谱；确定路径驻留变量，以确定各角向模态的路径侧模态权重，进而确定预测去除量；基于预测去除量和目标去除量利用目标活动网格确定路径驻留变量空间对应的转置反馈量，对路径驻留变量进行迭代更新并在收敛时确定目标驻留时间，以对待加工光学表面进行加工。本申请提高了光学元件表面加工效率。