Original name record: 日产化学株式会社

提供一种液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及液晶显示元件，所述液晶取向剂在室温保存时的液晶取向性的劣化得到抑制，含有两种以上聚酰胺酸。一种液晶取向剂，其特征在于，含有下述的聚合物（A）和聚合物（B）。聚合物（A）：具有源自四羧酸衍生物的结构单元和源自二胺的结构单元的聚酰胺酸（A），上述聚酰胺酸中，作为源自四羧酸衍生物的结构单元，包含下述式（1T）所示的结构单元（a－1Ta），作为源自二胺的结构单元，包含下述式（1D）所示的结构单元（a－1Da），上述聚酰胺酸（A）的至少一部分的末端包含非氨基，该非氨基为下述的结构式（E）所示的官能团，聚酰胺酸（A）的末端氨基的存在率以聚酰胺酸（A）的全部末端为基准为60％以下。聚合物（B）：具有源自四羧酸衍生物的结构单元和源自二胺的结构单元的聚酰胺酸（B），上述聚酰胺酸中，作为源自四羧酸衍生物的结构单元，包含下述式（1T）所示的结构单元（b－1Tb），作为源自二胺的结构单元，包含下述式（1D）所示的结构单元（b－1Db）。（各符号的定义如说明书所记载。）（各符号的定义如说明书所记载。）（各符号的定义如说明书所记载。）（各符号的定义如说明书所记载。）

提供一种电极形成用组合物，其作为通过简便的方法抑制增稠和凝胶化，保存稳定性提高，并且能进行固体成分的高浓度化的电极形成用组合物，所述电极形成用组合物包含含杂环的化合物、正极活性物质、粘合剂以及溶剂，上述含杂环的化合物由式（1）表示。（R各自独立地为氢原子、羧基、羟基、氨基、任选地具有取代基的碳原子数1～6的烷基、任选地具有取代基的碳原子数2～6的烯基或任选地具有取代基的碳原子数6～12的芳基，L各自独立地为单键、羰基、醚键、酯键或酰胺键，X各自独立地为氢原子、锂原子、钠原子、任选地具有取代基的碳原子数1～6的烷基或任选地具有取代基的碳原子数6～12的芳基。）

提供一种液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及液晶显示元件，所述液晶取向剂在室温保存时产生的液晶取向膜的预倾角的变动得到抑制，含有两种以上聚酰胺酸。一种液晶取向剂，其特征在于，能形成预倾角为0°以上且小于3°的液晶取向膜，所述液晶取向剂含有下述的聚合物（A）和聚合物（B）或聚合物（B）和聚合物（B’）。（其中，聚合物（A）不包括聚合物（B）。）聚合物（A）：具有源自四羧酸衍生物的结构单元和源自二胺的结构单元的聚酰胺酸（A），上述聚酰胺酸中，作为源自四羧酸衍生物的结构单元，包含下述式（1T）所示的结构单元（a－1Ta），作为源自二胺的结构单元，包含下述式（1D）所示的结构单元（a－1Da）。聚合物（B）：具有源自四羧酸衍生物的结构单元和源自二胺的结构单元的聚酰胺酸（B），上述聚酰胺酸中，作为源自四羧酸衍生物的结构单元，包含下述式（1T）所示的结构单元（b－1Tb），作为源自二胺的结构单元，包含下述式（1D）所示的结构单元（b－1Db），上述聚酰胺酸（B）的至少一部分的末端包含非氨基，该非氨基为下述的结构式（E）所示的官能团，聚酰胺酸（B）的末端氨基的存在率以聚酰胺酸（B）的全部末端为基准为60％以下。聚合物（B’）：具有源自四羧酸衍生物的结构单元和源自二胺的结构单元的聚酰胺酸（B’），上述聚酰胺酸中，作为源自四羧酸衍生物的结构单元，包含下述式（1T）所示的结构单元（b－1Tb），并且不含上述式（1T）所示的结构单元（a－1Da），作为源自二胺的结构单元，包含下述式（1D）所示的结构单元（b－1Db）或下述式（1D）所示的结构单元（b－1Db’），聚酰胺酸（B’）的末端氨基的存在率以聚酰胺酸（B）的全部末端为基准大于60％。（各符号的定义如说明书所记载。）（各符号的定义如说明书所记载。）（各符号的定义如说明书所记载。）（各符号的定义如说明书所记载。）。

本发明的课题是提供将氧化镓基板以高研磨速度进行研磨的研磨用组合物及其研磨方法。解决手段是一种研磨用组合物，是包含二氧化硅粒子、水和多价阴离子的、氧化镓基板的研磨用组合物，该多价阴离子的含量在该研磨用组合物中为0.002摩尔/升以下。多价阴离子为包含选自硫酸根离子、草酸根离子、柠檬酸根离子和磷酸根离子中的至少1种多价阴离子的多价阴离子。进一步包含1价阴离子，该1价阴离子的含量在该研磨用组合物中为0.04摩尔/升以下。一种研磨用组合物，其中1价阴离子为包含选自硝酸根离子、氯离子、溴离子、氯酸根离子、溴离子、乙酸根离子、甲酸根离子、丙酸根离子和丁酸根离子中的至少1种1价阴离子的1价阴离子。pH为5.0以上且9.5以下。

一种图案形成用组合物，其中，所述图案形成用组合物包含具有与芳香族环直接键合的羟基的含三嗪环的聚合物、交联剂、由下述式（S）表示的化合物、以及有机溶剂。式（S）中，例如，R表示甲基或乙基，n表示3，A表示碳原子数为1～10的亚烷基，A和A表示亚甲基，A表示氧原子，R表示氢原子或甲基。。