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Dossier

一种原子层沉积薄膜介电常数的测量系统及方法

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§ Ⅰ

Dossier Overview

Inventor

蔡华; 李翔; 张旭双; 赵璇; 朱悦洋; 李开铭; 刘辉

IPC Classification

G01R 27/26 (2006.01)C23C 16/52 (2006.01)C23C 16/455 (2006.01)H10P 74/20 (2026.01)

本发明涉及一种原子层沉积薄膜介电常数的测量系统及方法,所述测量系统包括原子层沉积单元、设置于所述原子层沉积单元内的电容器单元及衬底单元、测量单元以及计算单元。本发明所要解决的问题是通过设计特定的电容器,将薄膜镀在电容器中,可以间接测量出薄膜材料的介电常数,进而预测薄膜的厚度。

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