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Dossier
一种高通量多点阵双光子激光直写系统和方法
InventionActive
10Claims · 2 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Inventor
匡翠方; 孙伯文; 苏晨怡; 温积森; 陈天航; 刘旭
IPC Classification
G03F 7/20 (2006.01)G02B 27/09 (2006.01)
本发明公开了一种高通量多点阵双光子激光直写系统和方法,该系统利用扩束匀光模块将飞秒激光扩束的同时,还将飞秒激光的激光光强由高斯分布整形为平顶光,通过上述两点保证了多产生模块产生足够数量的、强度均匀的子点阵,本发明还通过合束模块将多个子点阵按照设定的排布方式合束形成多点阵,从而在激光直写模块的作用下能够实现极高通量的大面积三维微纳加工。该系统能够实现极高通量的大面积三维微纳加工。
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