一种对半导体抛光液生产设备的超声波清洗工艺和设备

本发明公开了一种对半导体抛光液生产设备的超声波清洗工艺和设备，涉及抛光液生产设备清洗技术领域，包括反应釜，连接仓的内侧设置有颗粒收集件，连接仓的内侧设置有控制单元。本发明通过设置颗粒收集件，通过伸缩气缸的伸展，来使颗粒捕捉仓向着远离环形仓圆心的方向进行移动，以此来使旋转挡板在导向槽的阻挡下扣入通槽内，如此便可将颗粒捕捉仓伸出环形仓，此时混合液在受到旋转搅动时会对挡板进行冲击，当混合液无法对挡板进行冲击时挡板便会在扭力弹簧弹性复原力的作用下复原，如此便可实时将混合液中的颗粒从清洗液中分离并截留，使得循环回釜内的清洗液保持“低颗粒浓度”状态，防止颗粒在搅拌轴的搅动下与反应釜内壁发生碰撞。