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Dossier

一种分子束外延异质基HgCdTe材料及其制备方法

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§ Ⅰ

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IPC Classification

H10F 77/123 (2025.01)H10F 77/14 (2025.01)H10F 71/00 (2025.01)H10F 30/222 (2025.01)C30B 29/52 (2006.01)C30B 23/02 (2006.01)

本发明涉及半导体材料制造领域,具体是一种分子束外延异质基HgCdTe材料及其制备方法。本发明针对现有异质基HgCdTe分子束外延技术中的位错密度较高与Se原子扩散失控的双重缺陷,通过设计HgSe超晶格结构触发位错反应并进一步构建As掺杂HgTe扩散封锁层,最终使得所述分子束外延异质基HgCdTe材料能够满足高工作温度(≥150 K)红外探测器对低位错密度、零Se扩散及高稳定性的核心要求,解决了由于分子束外延异质基HgCdTe的位错密度较高而引发器件暗电流剧增和盲元率上升的问题以及含Se的外延结构Se扩散失控的问题。

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