等离子体处理装置和基片支承器

本发明的等离子体处理装置即使供给脉冲化的DC信号也抑制基座电位的变动。等离子体处理装置包括腔室、供给脉冲化的偏置DC信号的偏置电源、在腔室内支承基片和边缘环的基片支承器、以及电路径。基片支承器具有：由电介质形成的静电吸盘，其包括保持基片的第1区域、和设置在第1区域的周围并保持边缘环的第2区域的；设置在第1区域的内部的第1偏置电极；设置在第2区域的内部的第2偏置电极；支承静电吸盘的基座；以及具有连接在第2偏置电极与基座之间的第1可变电容器的第1阻抗调节机构。电路径具有：连接偏置电源、基座和第1偏置电极的第1电路径；以及连接偏置电源、基座、第1阻抗调节机构和第2偏置电极的第2电路径。