清洁基站及控制方法

本申请提供一种清洁基站及控制方法，涉及清洁设备技术领域，清洁基站包括储液箱，储液箱包括第一储液腔和第二储液腔，第一储液腔用于存储清洁液，第二储液腔用于存储除臭液。储液箱还具有第一出液口和第二出液口，基站本体上具有第一接口和第二接口。第一接口与第一出液口相连，第二接口与第二出液口相连。清洁液一次通过第一出液口和第一接口输送至擦拖件，除臭液依次通过第二出液口和第二接口输送至擦拖件。第一出液口和第二出液口位于储液箱的外表面。本申请提供的清洁基站，能够有效提高清洁设备对臭味污渍的清除效果，提升清洁设备的综合清洁能力。