CNIPA.AI
Back to Search
Dossier

一种光催化降解压电限域膜材料及其制备方法和应用

InventionActive
10Claims · 3 independent
§ Ⅰ

Dossier Overview

Inventor

晏超; 洪怡萱; 崔颜华

IPC Classification

B01J 27/06 (2006.01)C02F 1/30 (2023.01)C02F 1/48 (2023.01)B01J 31/06 (2006.01)B01J 35/50 (2024.01)B01J 35/39 (2024.01)B01J 35/33 (2024.01)C02F 101/34 (2006.01)C02F 101/38 (2006.01)

本发明公开了一种光催化降解压电限域膜材料及其制备方法和应用,所述压电限域膜材料为BiOBr/PVDF膜,由BiOBr与聚偏氟乙烯混合静置后采用相转化法制得,表面富集OH基团BiOBr粉末与聚偏氟乙烯PVDF中的H‑C‑H形成氢键,BiOBr粉末均匀分散紧附在PVDF膜内;该膜材料具有优秀的压电性能和高孔隙率,良好的柔韧性和机械强度,在水流驱动下产生可持续电场,进一步提高光催化降解四环素效率;本发明采用的制备工艺简单可行,作为限域压电敏感基底在膜光催化系统中的应用极具前景。

External Resources