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Dossier

结型场效应晶体管器件结构

InventionActive
10Claims · 1 independent
§ Ⅰ

Dossier Overview

Inventor

王琼; 宋亮; 李春旭; 王亚南

IPC Classification

H10D 62/10 (2025.01)H10D 30/83 (2025.01)H10D 64/00 (2025.01)

本发明涉及一种结型场效应晶体管器件结构,包括:衬底;浅槽隔离结构;阱区,至少部分位于浅槽隔离结构的下方、且至少部分位于衬底的上方;多个深槽结构,在导电沟道宽度方向上每隔一段距离设有一个,各深槽结构的深度大于阱区的深度,从而将阱区分隔为多个;深槽结构包括位于深槽槽壁的绝缘层、和位于深槽中且被绝缘层环绕包围的隔离区栅极;浅槽隔离结构包围各深槽结构;源极区,与阱区直接连接;漏极区,与阱区直接连接;浅槽隔离结构至少部分位于源极区与漏极区之间,各深槽结构位于源极区与漏极区之间;沟道栅极,位于源极区和漏极区之间的浅槽隔离结构上、且位于导电沟道表面上方。本发明能够在一个管芯中形成具有不同的截止电压的JFET。

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