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面外位移测量方法、装置、设备、存储介质及程序产品

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10청구항 · 5 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

宋俊磊; 张岩; 周蓓; 张传科; 董凯锋; 晋芳; 莫文琴

출원일

Sep 14, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

G01B 11/02 (2006.01)

本申请公开了一种面外位移测量方法、装置、设备、存储介质及程序产品,涉及结构健康监测技术领域,包括:采集待测对象表面的光栅标记在第一时刻的参考莫尔条纹图和第二时刻的目标莫尔条纹图;分别计算参考莫尔条纹图和目标莫尔条纹图各自的莫尔条纹相位,确定各自的莫尔条纹相位沿图像水平方向的变化率,得到参考莫尔条纹图的参考相位梯度和得到目标莫尔条纹图的目标相位梯度;确定目标相位梯度相对于参考相位梯度的相位梯度变化量;根据预设的灵敏度系数和相位梯度变化量,得到待测对象的面外位移,其中,面外位移为待测对象沿相机光轴方向的位移量。本申请面外位移的测量精度高、计算复杂度低。