曝光装置

本发明涉及一种曝光装置，提供在形成双重曝光区域时能够减少过度曝光的技术。控制部（70）通过控制光调制元件（461），形成在第一主扫描处理中被照射第一描绘光（LBD1）的区域的一部分与在第二主扫描处理中被照射第二描绘光（LBD2）的区域的一部分在副扫描方向（D2）上重合的双重曝光区域（AJ1）。第一描绘光（LBD1）的在副扫描方向（D2）上的光量分布（G1）在双重曝光区域（AJ1）中包含从第一光量（Q1）减少到第二光量（Q2）的第一衰减区（Z1）和从第二光量（Q2）朝向零以与第一衰减区（Z1）不同的梯度减少的第二衰减区（Z2）。