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Dossier
用于减少寄生等离子体的装置和具有其的衬底处理设备
InventionUnknown
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14Claims · 2 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Inventor
金大渊; 金钟随
Filing Date
Apr 1, 2026
Publication Date
Oct 16, 2026
IPC Classification
H01J 37/32 (2006.01)
在本公开的一个实施例中,一种用于减少寄生等离子体的装置包括:气体歧管;气体通道;以及绝缘体,其位于气体歧管和气体通道之间,以将气体通道与气体歧管电隔离,其中气体歧管是金属的并且接地以减少气体歧管内的寄生等离子体。
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