一种高分辨率图案化HTL薄膜、其制备方法及其在高性能QLED器件中的应用

本发明公开了一种高分辨率图案化HTL薄膜、其制备方法及其在高性能QLED器件中的应用，属于量子点（QD）纳米技术图案化显示领域。本发明通过在HTL（TFB）溶液中引入Spiro‑OMeTAD和光引发剂bisFPA，使HTL溶液具备光敏特性，TFB与光引发剂bisFPA紫外曝光发生交联反应，从而改变TFB在原溶液中的溶解度，通过引入Spiro‑OMeTAD有效改善图案质量，消除像素间隔处的TFB残留，成功开发了一种新型的直接光刻HTL图案化的方法。并通过该方法，进一步制备出边缘清晰的像素化蓝光QLED器件，其最大亮度达到79818.14 cd/m，最大EQE达到3.69%。