感放射线性组合物及图案形成方法

本发明的目的在于提供一种感放射线性组合物、以及图案形成方法，所述感放射线性组合物能够形成可以充分的水平发挥感度、曝光宽容度、焦点深度、图案矩形性、保存稳定性、显影缺陷性能及耐干式蚀刻性的抗蚀剂膜。一种感放射线性组合物，含有：包含具有酚性羟基的结构单元（I）与下述式（2）所表示的结构单元（II）的聚合物（A）、下述式（1）所表示的化合物（B）、交联剂（Q）及溶剂（E）。（式（1）中，R、R、R及R分别独立地为氢原子或碳数1～40的一价有机基；R及R分别独立地为氢原子或碳数1～40的一价有机基，或者表示R及R相互结合并与这些所键结的碳原子一起构成的碳数3～10的脂环结构；R及R分别独立地为氢原子或碳数1～40的一价有机基，或者表示R及R相互结合并与这些所键结的碳原子一起构成的碳数3～10的脂环结构；R为卤素原子、氰基、硝基、羟基或碳数1～40的一价有机基；在R存在多个的情况下，多个R相互相同或不同；n为1～5的整数；p为0或1；R为碳数1～40的一价有机基；X为‑O‑、‑S‑、‑SO‑或‑CO‑）（式（2）中，R为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；n1为0～5的整数；X为卤素原子、氰基、硝基、烷基、羧基或氟化烷基；在X存在多个的情况下，多个X相互相同或不同）。