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Dossier
清洁溶液以及清洁半导体基板及制造半导体装置的方法
InventionUnknown
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10Claims · 3 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Inventor
訾安仁; 张庆裕
Filing Date
Apr 8, 2020
Publication Date
Oct 20, 2026
IPC Classification
C11D 1/66 (2006.01)H10P 70/00 (2026.01)C11D 1/72 (2006.01)C11D 3/43 (2006.01)C11D 3/04 (2006.01)C11D 3/20 (2006.01)C11D 3/28 (2006.01)C11D 3/30 (2006.01)C11D 3/36 (2006.01)C11D 3/60 (2006.01)C11D 11/00 (2006.01)B08B 3/08 (2006.01)
一种清洁溶液包括：具有25 > δ> 13、25 > δ> 3、及30 > δ> 4的Hansen溶解度参数的第一溶剂；具有‑11 < pKa < 4的酸解离常数的酸、或具有40 > pKa > 9.5的酸解离常数的碱；及非离子界面活性剂。非离子界面活性剂为选自由以下组成的群的一或多个、、、、、、、、、、、，其中n为1～10。
§ Ⅵ
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