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Dossier
一种倾斜刻蚀调控方法与应用
InventionUnknown
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10Claims · 1 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Applicant
哈尔滨工业大学（深圳）（哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院）
Inventor
宋清海; 李英杰; 肖淑敏; 曲歌扬
Filing Date
Jun 29, 2026
Publication Date
Oct 20, 2026
IPC Classification
H01J 37/147 (2006.01)H01J 37/32 (2006.01)
本发明涉及一种倾斜刻蚀调控方法与应用，属于微刻蚀技术领域。本发明通过在刻蚀区域附近添加一个金属调制器，改变待刻蚀区域附近的电场分布，从而改变刻蚀离子的移动方向。本发明可通过定制不同的金属调制器类型，实现可控的倾斜刻蚀。
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