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Dossier
低压PNP结构的ESD器件
InventionUnknown
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8Claims · 1 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Inventor
范炜盛
Filing Date
Jul 1, 2026
Publication Date
Oct 20, 2026
IPC Classification
H10D 89/60 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)
本发明公开了一种低压PNP结构的ESD器件,在一半导体衬底中包含有N阱,在所述的N阱中衬底表面处具有多个STI隔离结构,在多个所述的STI隔离结构之间所形成的隔离区域的衬底中具有多个重掺杂P型区;在最外围靠近N阱边缘的STI隔离结构之间为重掺杂N型区;所述的最外围的重掺杂N型区与距其最近的重掺杂P型区短接引出形成高电位端口,位于N阱中心区域的多个重掺杂P型区,以交替间隔的方式分别接高电位端口和低电位端口;所述的N阱中的多个重掺杂P型区,所有接低电位端口的重掺杂P型区下方还具有N型掺杂区;所述的ESD器件的击穿电压可通过所述N型掺杂区的掺杂浓度进行调整。
§ Ⅵ
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