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光检测装置

发明专利未知
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38权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

三成英树; 大庭义行; 大石秀俊; 加藤谅一; 山知亮介; 马场公一; 佐藤大

申请日

Mar 27, 2025

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

H10F 39/18 (2006.01)H10F 30/20 (2006.01)

本发明减少了暗电流并抑制了量子效率的降低。该光检测装置包括:半导体层,其在一个方向上具有厚度;光电转换区域,其设置在所述半导体层中并由分离区域分隔;和光电转换部,其设置在所述光电转换区域中,并被构造为执行光到信号电荷的光电转换。所述分离区域包括:挖掘部,其设置在所述半导体层中并在所述一个方向上延伸;固定电荷膜,其具有固定电荷并且沿着所述挖掘部的侧面部设置;和金属膜,其在所述挖掘部的内侧沿着所述固定电荷膜设置。