张江国家实验室

一种多级对准系统及对准方法，属于精密对准技术领域。所述多级对准系统包括：目标保持模块，用于承载设有目标标记和第一光栅的目标物；运动模块，用于承载设有对准标记和第二光栅的对准物；第一对准模块，基于所述对准标记，驱动运动模块移动对准物移动至目标物的正下方；第二对准模块，包括成像校正组件、粗对准组件和精对准组件；其中：成像校正组件提取目标标记进行粗对准组件和精对准组件的对焦；粗对准组件实现对准物与目标物的粗对准；精对准组件实现对准物与目标物的精对准。本发明基于多级对准及三阶光栅的结构设计，减少系统误差对对准精度的影响，大大提高纳米压印的对准精度。

一种半导体器件检测方法及控制系统、风险预测模型的构建方法，属于半导体技术领域。所述检测方法包括：S1：初始化系统并设定初始输入激励参数范围；S2：动态优化初始输入激励参数范围；S3：施加分区间激励信号：S4：修正实际输出结果；S5：第一映射关系的构建；S6：构建仿真软件并生成仿真输出结果，构建第二映射关系；S7：通过对比两组映射关系中的输出结果，判断半导体器件是否合格。本申请通过自适应优化算法动态优化输入激励参数范围，通过持续多轮迭代，可以更精确地找到让器件表现最佳的信号范围，可根据不同器件类型与批次自动调整输入激励范围，特别适用于新型和复杂结构的半导体器件检测，显著提升了检测精确性。

一种光学透镜组、采用其的投影镜头及光学成像系统，涉及光学镜头领域。所述光学透镜组包括：沿光线方向自物面至像面依次设置的前组透镜、光阑以及后组透镜；其中，前组透镜包括：具有正光焦度的第一透镜、具有正光焦度的第二透镜、具有正光焦度的第三透镜、具有正光焦度的第四透镜及具有负光焦度的第五透镜；后组透镜包括：具有负光焦度的第六透镜、具有正光焦度的第七透镜、具有正光焦度的第八透镜以及具有正光焦度的第九透镜。本发明的投影镜头可以满足复杂系统中，小视场、长后工作距离、高分辨率成像的光学成像系统的应用需求，实现后工作距离长、投射比大、成像分辨率高、成像质量接近衍射极限、畸变低、适用范围广的效果。

本公开提供一种可提高矢量矩阵乘法的计算速度、降低计算成本的磁光器件、磁光矢量计算阵列及磁光矢量矩阵乘法计算装置。磁光器件包括第一分光器、第二分光器、互易移相器、非互易移相器以及反射机构，互易移相器及非互易移相器串行连接在第一分光器与第二分光器之间，第一分光器的两个输入端口中的任一方设为磁光器件的入射端，另一方设为磁光器件的出射端，光信号从磁光器件的入射端入射，从磁光器件的出射端出射，出射的光信号的光功率正比于φ、φ正余弦值之和的平方或φ、φ正余弦值之差的平方。

一种纳米压印的压印晶圆对准方法、系统及存储介质，涉及纳米压印技术领域。所述纳米压印的压印晶圆对准系统包括压印模板、压印晶圆、多相机成像模块及晶圆运动模块，通过获取模板对准标记的位置信息，将压印晶圆移动至预设初始位置，以使得所述压印晶圆上的至少一个晶圆对准标记位于视场内，将在视场内的晶圆对准标记移动至视场中心处，确定位于所述压印晶圆同角点相邻晶圆对准标记的位置信息，基于同角点两组晶圆对准标记及其模板对准标记的位置间的差别进行第一次对准。本申请根据晶圆对准标记出现在视场中的个数执行对准策略，节省了两套成像系统在预对准时要进行全场扫描，反复对准的过程，有效提高了对准的速度和效率。

本申请实施例提供了一种掩膜版刻蚀方法、装置、设备及存储介质，可应用于半导体技术领域，在该方法中，对包含基板和第一掩膜层的基底结构进行图案曝光，获得中间态结构；以所述基板暴露为停止条件，对所述中间态结构循环执行以下操作：在所述中间态结构的表面进行薄膜沉积得到沉积层，并以所述沉积层和所述中间态结构中的第二掩膜层为掩膜，对所述中间态结构进行刻蚀操作；所述第二掩膜层用于刻画图案；基于剩余的第一掩膜层，对所述基板进行刻蚀操作，直到所述图案转移到所述基板上，实现了掩膜版刻蚀中图案的完整转移，提高了掩膜版刻蚀的准确度和成功率。

本发明属于纳米压印技术领域，公开了一种具有柔性关节的多自由度模板上板装置及压印装置，其方案包括：底座、旋转驱动机构、直线驱动机构、柔性垫片和模板托盘；柔性垫片一侧与模板托盘固定连接，另一侧与直线驱动机构固定连接，柔性垫片由弹性材料制成，模板托盘用于放置模板，柔性垫片用于确保模板托盘上板时模板与压印头贴合；旋转驱动机构一侧与直线驱动机构传动连接，另一侧安装在底座上，直线驱动机构用于控制模板托盘沿Z轴做直线运动，旋转驱动机构用于控制直线驱动机构绕Z轴做旋转运动。如此设置，本装置能够用于压印头上模板更换时的输送与安装，通过多自由度的驱动机构设置实现模板上板的精确控制。

本发明公开一种离轴照明的对准装置、纳米压印装置及压印对准方法，涉及纳米压印技术领域。所述对准装置包括：照明单元分别提供多束照明光，照明光以一定的入射角度分别在x方向和y方向上照射对准物；成像单元垂直设于对准物的上方，获取表征对准物和模板之间对准程度的莫尔条纹图像，其中，照明光入射到对准物上的标记光栅和模板上的模板光栅分别产生第一衍射光和第二衍射光，莫尔条纹图像基于所述第一衍射光和第二衍射光而产生莫尔条纹图像。本发明采用离轴照明系统，提高照明利用率，简化装置，同时减少需要传输的数据量，提高生产效率。

本公开提供一种输出脉冲的宽度可调的加速器相干光源装置及其控制方法、以及光刻系统。利用调制激光光学平台(100)提供波前旋转激光，在调制装置(200)中对电子束进行调制形成微聚束结构，使得辐射波荡器(300)输出的相干辐射脉冲的宽度可调。通过调节调制激光光学平台(100)中的光栅对(110、120)之间的距离，可以控制调制激光的波前旋转程度，使得波前旋转程度随着光栅对间距的增大而增大，利用波前旋转激光调制后的电子束中微聚束的宽度随之减小，进而使得辐射波荡器(300)输出的脉冲宽度逐渐缩短。