用于半导体衬底对准的X射线方法和系统

将X射线引导到呈键合配置以供键合在一起的第一衬底和第二衬底。将X射线引导到第一衬底中的第一对准标记和第三对准标记，并引导到第二衬底中的第二对准标记和第四对准标记。在从第一对准标记和第二对准标记发射时检测荧光X射线，以基于第一对准标记和第二对准标记的第一检测到的未对准来测量第一衬底相对于第二衬底的第一未对准。使用X射线塔尔博特‑劳干涉测量法将X射线透射穿过第一衬底和第二衬底，以基于第三对准标记和第四对准标记的第二检测到的未对准来测量第一衬底和第二衬底的第二未对准。